求人情報詳細
NEW 東京応化工業株式会社 半導体材料の開発/神奈川/寒川
正社員
| 仕事内容 | ◆職務内容: IMプロジェクトへの配属となります。 〈業務内容〉 ◆共通業務(配属初期~半年頃に担当いただく業務) ・社内評価装置を用いた基礎特性評価およびデータ解析 ・半導体用レジスト材料の基礎理解 ・開発テーマに関する文献調査、技術整理 ・社内外関係部署との技術的な情報共有・ディスカッション ◆習熟後に担当いただく業務 化学系バックグラウンドを活かし、レジスト組成設計、原材料設計、有機合成のいずれかを主軸として開発業務に従事していただきます。 ・レジスト組成・原材料の設計および性能改善検討 ・感度、LWR、欠陥等のリソグラフィ特性改善に向けた開発 ・海外パートナー企業(IM社等)との技術協議、共同評価の推進 ・顧客向け技術説明、評価サポート ・特許出願に向けた技術整理および権利化対応 ・中量産を見据えた材料設計、プロセス検討、サプライヤ連携 本プロジェクトはIrresistible Materials社(以下、IM社)との共同開発プロジェクトです。 IM社と同社は、次世代半導体製造に不可欠なEUV向けフォトレジストの共同開発と事業化を加速するため資本・技術提携を締結しました。IM社の革新的レジスト技術と同社の製造体制を組み合わせ、高NA対応、解像度向上、プロセスの効率化およびコスト低減化などの業界課題を解決し、量産化と市場導入を推進していきます。 |
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| 経験・資格 |
※求人情報の応募要件全てに該当しなくても、企業様に対して内々に打診したり相談することが可能な場合もございます。一つでも当てはまる方は前向きにご検討下さい。
対象となる方<最終学歴> 大学院、大学卒以上 <応募資格/応募条件> ■必須条件: ・以下経験を有していること ◇研究開発業務において、自ら課題を設定し、検討/実行/考察を行った経験 ◇実験データの整理/解析および技術資料の作成経験 ・化学系の大学または大学院を卒業されていること(専攻が異なる場合でも、化学系企業での開発経験、基礎的な専門知識を有していれば考慮いたします) ・英語による技術資料の読解、メールでのコミュニケーションに抵抗がないこと ・社内外の関係者と円滑に業務を進めるためのコミュニケーション能力を有していること <語学力> 歓迎条件:英語初級 ※更なる詳細事項は、カウンセリング(面談)時にお伝えします。 |
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| 想定年収 | 500 万円 ~ 800 万円 | ||||||||||||
| 勤務地 | 神奈川県高座郡寒川町田端1590 | ||||||||||||
| 勤務時間 | 勤務時間 <労働時間区分> フレックスタイム制 コアタイム:10:00~15:00 フレキシブルタイム:6:00~10:00、15:00~22:00 休憩時間:60分 時間外労働有無:有 <標準的な勤務時間帯> 8:30~17:15 <その他就業時間補足> ■平均残業時間:16.4時間 |
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| 休日・休暇 | 完全週休2日制、祝日、メーデー、年末年始、GW、夏期など 年間休日122日、慶弔、出産、年次有給休暇初年度15日(以降16~20日)など |
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| 試用期間 | <試用期間> 3ヶ月 ※試用期間中、フレックスタイム適応外(通常の8:30~17:15の勤務時間となります) |
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| 昇給・給与 | <直近実績参考値> 昇給: 年1回 5.06% (2023年度) 賞与: 年2回 7.4ヶ月(2022年度) ※夏:3.50ヶ月、22年冬:3.90ヶ月 |
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| 加入保険 | 各種社会保険完備 | ||||||||||||
| 受動喫煙対策の有無 | 有 | ||||||||||||
| 企業データ |
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| 取材班による独自解説 | 半導体製造に欠かせない化学薬品である「フォトレジスト」を製造する企業。 1968年に国産初の半導体用のフォトレジストを開発し、現在では全ての露光機に対応したフォトレジストを フルラインナップで提供。グローバルシェアNo.1を誇る。 | ||||||||||||
| Recruiting No. | 01006884000126 |
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