NEW 東京応化工業株式会社 知財(発明発掘、出願権利化等)／神奈川

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仕事内容	■職務内容： ・半導体形成材料(フォトレジストなど)の発明発掘、出願権利化、クリアランスに関わる業務 ・事業別知的財産戦略の企画、推進 ■本ポジションで活かせる、磨けるスキルについて： ・国内外の特許の出願・権利化に関する知識 ・発明発掘、知的財産戦略業務のスキル ・事業会社もしくは特許事務所でのご経験 ・審査官として5年以上の実務経験(任期付き審査官経験者など) ・英語の読み書き(読解がメインで、文書作成と口頭コミュニケーションはあるとベター) ■特徴： ・半導体レジスト等機能材料で世界トップクラスプライム市場上場 ・世界トップレベルの半導体メーカーとの安定的な取引 ・『フォトリソグラフィ』による微細加工技術をコア・テクノロジーに、常に最先端の領域に挑戦していきます 【同社について】 半導体デバイスの製造工程では、フォトリソグラフィという技術を用いてシリコンウエハ上に微細な溝を刻み、そこに回路を形成します。私ども東京応化工業はこの工程で使用する様々なフォトレジストの開発・製造・販売を事業の柱として成長してきた企業です。 「半導体用フォトレジスト製品」はグローバルニッチトップ企業100選に認定。海外の売上比率は全体売上の80%近くを占めており、アジアを中心に北米・ヨーロッパのマーケットがメインフィールド。海外を主戦場とした新規事業をつくる動きや、海外事業に資金と人材を投資する動きも活発化。グローバル人材開発にも積極的です。 【同社の価値】 フォトレジストの性能を高めると、より微細な溝をウエハに刻むことができ、同社は製品開発を通じて、半導体の集積度向上の歴史に貢献してきました。そして、今後の将来においても更に新規価値を世の中へ発信し続けていくことが使命と思っています。 【グローバルニッチトップ企業100選に認定】 同社の「半導体用フォトレジスト」が、戦略性・市場独占性・国際性などを高く評価され、経済産業省による「グローバルニッチトップ企業(電気・電子部門)」に認定されました。
経験・資格	※求人情報の応募要件全てに該当しなくても、企業様に対して内々に打診したり相談することが可能な場合もございます。一つでも当てはまる方は前向きにご検討下さい。 対象となる方 ＜最終学歴＞ 大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・国内外の特許の出願・権利化に関する知識 ・発明発掘、知的財産戦略業務のスキル ・審査官としての実務経験(任期付き審査官経験者など) ・英語(読解がメインです。文書作成と口頭コミュニケーションに抵抗のない方) ＜語学力＞ 歓迎条件：英語初級 ＜語学補足＞ 読解がメインで、文書作成と口頭コミュニケーションはあるとベター ※更なる詳細事項は、カウンセリング（面談）時にお伝えします。
想定年収	700 万円 ～ 950 万円
勤務地	神奈川県高座郡寒川町田端1590
勤務時間	勤務時間 ＜労働時間区分＞ フレックスタイム制 コアタイム：10:00～15:00 休憩時間：60分 時間外労働有無：有 ＜標準的な勤務時間帯＞ 8:30～17:15
休日・休暇	完全週休2日制、祝日、メーデー、年末年始、GW、夏期など 年間休日122日、慶弔、出産、年次有給休暇初年度15日（以降16～20日）など
試用期間	＜試用期間＞ 3ヶ月 ※試用期間中、フレックスタイム適応対象外
昇給・給与	＜直近実績参考値＞ 昇給：　年1回　5.06％ （2023年度） 賞与：　年2回　7.4ヶ月（2022年度） ※夏：3.50ヶ月、22年冬：3.90ヶ月
加入保険	各種社会保険完備
受動喫煙対策の有無	有
企業データ	会社名 東京応化工業株式会社 設立 1940年(昭和15年)10月25日 資本金 146億4044万8千円 従業員数 1,996名 株式 ◆東証プライム上場 事業内容 半導体・ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂（フォトレジスト）・高純度化学薬品を中心とした製造材料、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売
取材班による独自解説	半導体製造に欠かせない化学薬品である「フォトレジスト」を製造する企業。 1968年に国産初の半導体用のフォトレジストを開発し、現在では全ての露光機に対応したフォトレジストを フルラインナップで提供。グローバルシェアNo.1を誇る。
Recruiting No.	01006884000045